芯片、电子工业用超纯水制备工程机

技术参数：

生产厂家：中扬（天津）环保科技有限公司
设备名称：芯片、电子工业用超纯水制备工程机

进水水源：一般城市自来水、地下水

进水水压：0.25-0.4MPa；水温：5-40℃

生产水量：500L-150T/H（可以根据客户需求定制）

产品概述：

芯片与电子工业用超纯水制备工程机是半导体制造、晶圆清洗、芯片封装等关键工艺的核心配套设备，需满足极端严格的水质标准，其纯水中的离子、颗粒物、TOC（总有机碳）、微生物及溶解氧等指标直接影响芯片良率和器件性能。传统超纯水制备工艺通常采用离子交换树脂进行，此工艺需要进行树脂再生，既耗费物力又耗费人工，中扬经多年实践，结合膜分离技术，采用反渗透、EDI装置结合混床模块化设计工艺来制备超纯水，其出水电阻率可达18.25MΩ·cm(25℃)，符合芯片制造用水要求，为芯片成品品质提供了有效保障。

工艺流程：UF + RO + EDI + 抛光混床工艺

1.原水预处理系统：利用活性炭的吸附作用，去除原水中的悬浮物、胶体、泥沙等大颗粒杂质，降低水的浊度。

2.超滤系统（UF）：利用超滤膜的筛分作用，去除水中的大分子有机物、胶体、细菌、病毒等杂质，保留对后续反渗透系统无害的小分子物质和离子。

3.反渗透系统（RO）：使水在压力作用下克服渗透压，通过反渗透膜，而盐分等杂质则被截留，从而达到除盐和去除其他小分子杂质的目的。

4.电去离子系统（EDI）：由阴、阳离子交换膜、离子交换树脂和电极等组成。在直流电场的作用下，水中的阴、阳离子分别向阳极和阴极移动，通过离子交换膜进入浓水室，从而实现水的深度除盐。同时在电场作用下，离子交换树脂不断得到再生，无需化学再生药剂，具有环保、高效等优点。

5.抛光混床系统：对 EDI 出水进行进一步精制，去除水中残留的微量离子，使水质达到更高的纯度要求，满足芯片、电子工业等对超纯水的严格水质标准。

6.超纯水储存：储存罐用于储存制备好的超纯水，通常采用不锈钢或聚四氟乙烯等材质，具有良好的耐腐蚀性和密封性，防止超纯水受到外界污染，满足生产过程中的用水需求。

7.循环管道系统：超纯水输送系统采用循环管道设计，循环管道使超纯水在系统中不断流动，避免死水区域的存在，保证超纯水在输送过程中的水质稳定，减少细菌滋生和水质污染的可能性。

8.终端过滤装置：在用水点处安装 0.22μm 或更小粒径的微孔终端过滤装置，进一步去除水中可能存在的微小颗粒和微生物，确保供应到设备的超纯水质量符合工艺要求。

控制系统：

1.全流程自动化控制

(1)全自动运行：系统采用全自动PLC+LED触摸屏+组态监控操作，实时监测水质（电阻率、温度等），主机可以连接到网络，任意一台联网电脑、手机均可远程操控。厂家每周两次通过网络进入监控系统巡视机器运转情况，并及时修复。

(2)自动启停：根据储水箱水位或用水需求自动启停制水流程，避免空转能耗。预设启动程序，自动完成预处理、RO膜冲洗、产水切换等流程。UF纳入组态监控系统，可任意设定反洗时间以及根据出水水质自动调整冲洗频率。确保不被堵塞。

(3)多级联动：协调预处理（反渗透RO）、深度纯化（EDI/离子交换）、超滤（UF）等模块的协同工作。UF、RO都具备自动和定时冲洗功能，显示自来水、RO水、EDI水和终端取水水质，任何一段水质低于设定值均会出现报警和自我修复，并生成故障记录。

2.实时水质监测与反馈

(1)在线传感器：机器自带RS232接口，记录历史水质情况（备用）。监测关键参数如电阻率（0-18.25MΩ·cm）、温度、压力、流量等。

(2)数据可视化：全中文菜单，通过触摸屏实时显示水质曲线、运行状态及报警信息。具备手机小程序、PC端远程管理，实现远程监控，测试维护设备。用户可通过微信小程序联入中扬云平台操控机器，修改运行参数。

3.智能预警与保护机制

(1)故障诊断：系统设有缺水、停电、过载、过流的自动保护功能，确保设备安全。并生成报警记录。自动识别滤芯堵塞、膜污染、泵压异常等问题，提示报警并提示解决方案。

(2)安全防护：缺水/满水保护、过压/欠压停机、UV灯失效提醒等，防止设备损坏。

(3)工作日放假两种工作模式，保证水质水量要求及节约环保需要。

4.系统安全管理

(1)智能计数：根据运行时间或产水量计算滤芯、RO膜、树脂等耗材剩余寿命，提前预警更换，突发故障时发送短信/邮件报警。

(2)权限控制：系统设置均由密码保护，防止未经授权的更改。

应用场景：

1.半导体芯片制造：晶圆清洗、蚀刻与光刻、化学机械抛光后清洗

2.平板显示器制造：液晶显示、有机发光二极管

3.电子元器件加工：高精度线路板、电容器与光电器件

4.实验室与科研领域：分析仪器用水、生物医药与微电子研发

5.其他工业场景：新能源产业、精密加工与表面处理